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信越化学应对半导体抗蚀剂市场的扩展和发展
  信越化学工业株式会社将在日本和台湾的光阻剂生产基地投资300亿日元。继续进行资本投资,以满足对光致抗蚀剂不断增长的需求,这对于制造先进的半导体和技术发展是必不可少的。
 
  半导体制造工艺的复杂性将在未来继续。增强及时响应客户需求的能力,包括技术和供应方面。为此,子公司信越电子材料有限公司(台湾云林县,以下简称“信越电子材料(台湾)”)和信越化学直江工厂(新泻县上越市,以下简称“直越工厂”)将提高产能。台湾信越电子材料有限公司于2019年夏季完成了第一阶段的建设,但已经在建造新的工厂大楼,这次将进一步扩大其生产设施。力争在2021年2月之前完成建设。同时,在Naoetsu工厂,将建造一座新建筑以提高产能。计划在2022年2月之前完成建设。
 
  信越化学已经开发并批量生产了可提高电路图案尺寸精度的高灵敏度ArF光刻胶和多层光刻胶材料。我们一直为客户提供最先进的光刻胶相关产品。2019年7月,光刻胶材料在台湾开始生产,这也是需求量之一。实现了多个生产基地并提高了供应稳定性。
 
  信越化学将随着半导体器件市场的扩大,晶体管数量的增加以及用于节能的器件工艺的发展,稳步抓住对半导体相关材料的需求,并将进一步巩固其业务基础。
信越化学应对半导体抗蚀剂市场的扩展和发展:http://www.sanbang78.com//news/mtsj/1144.html


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